一、平行光化學反應器實驗前準備：確保設備與樣品就緒
設備檢查與連接
將反應器(如八位反應器或磁力攪拌器)放入主機箱內，確保反應管(石英或聚四氟乙烯材質)內放入磁子，保證攪拌功能正常。
檢查光源(汞燈、氙燈或LED陣列)、冷卻水循環裝置是否連接穩固，避免實驗中因接觸不良導致中斷。
確認電源為三芯接地插頭，電壓與儀器要求一致(允許±10%偏差)，電源插座額定負載需滿足儀器需求。
樣品與試劑準備
根據實驗需求配制反應溶液，按比例加入光催化劑(如TiO?)和反應物，確保濃度準確。
通入惰性氣體(如氮氣，純度≥99.999%)排除氧氣，密封反應體系以防止氧化副反應。
示例：藥物中間體合成中，需同時進行脫保護(365nm紫外線觸發)和環化(450nm藍光引發)，需提前計算兩種光源的照射比例。
環境控制
儀器應放置在陰涼、通風、干燥、防塵的位置，通風處與其他物品保持≥30cm距離，確保散熱效果。
避免陽光直射或高溫潮濕環境，防止光學部件霧化或霉變。
二、開機與參數設置：精準調控實驗條件
電源與基礎啟動
連接電源并打開總開關，確保風扇正常工作(反應暗箱內空氣開始外排)。
打開反應器或磁力攪拌器電源，按需調節攪拌速度(通常300-600rpm)，避免漩渦影響透光率。
光源選擇與調節
根據反應物吸收光譜選擇光源波長(如365nm、450nm)，確保與最大吸收峰重疊。
調節光源功率(控制器中心位置)，通常控制在50-150mW/cm²，避免過強光照引發自由基鏈式反應。
示例：降解有機污染物時，先用254nm紫外線打斷苯環結構，再轉用405nm可見光促使小分子徹底礦化。
溫度與定時設置
設置反應溫度(建議20-35℃)，采用夾套式冷卻系統控制溫度波動≤±1℃。
通過微電腦定時器設定工作時間，確保反應時長符合預實驗結果。
三、實驗進行中：實時監控與調整
反應狀態檢查
定期觀察反應溶液顏色變化(如顏色變深可能提示氧化副反應)，檢查惰性氣體純度是否達標。
記錄環境溫濕度、大氣壓強等參數，這些因素可能影響反應重復性。
光催化劑管理
確保光催化劑分散均勻，可使用超聲處理使納米顆粒分布一致。
磁性納米催化劑可通過外加磁場分離，重復使用5次后活性仍保持90%以上；非均相催化劑需用稀酸處理恢復活性位點。
應急處理
若出現沉淀，立即停止反應并補加助溶劑(如四氫呋喃或二甲基亞砜)。
轉化率突降時，檢查光源是否衰減(定期用光功率計校準，波長偏移超過±5nm需調整濾光片)。
四、實驗結束與關機：規范操作保護設備
反應終止與樣品處理
先關閉光源，再停止攪拌，避免局部過熱引發副反應。
取出樣品并分析反應效果(如通過色譜或光譜監測產物分布)。
設備清洗與維護
反應器清洗：采用分段清洗法——先用反應溶劑沖洗，再用乙醇超聲處理，最后用超純水沖洗并氮氣吹干。
光源維護：每運行500小時檢測光譜，燈管壽命約2000小時，光強下降時需及時更換。
透光率檢測：每月用紫外可見分光光度計檢測反應器透光率，低于85%需更換。
安全關機流程
關閉所有電源開關，拔掉電源線(尤其UPLC系統需確保模塊停止運行)。
妥善處理廢液，嚴格遵守《危險廢物貯存污染控制標準》(GB18597)。
五、數據記錄與后續分析
實驗記錄
詳細記錄量子產率、光子通量、反應物摩爾吸光系數等核心參數，這些數據決定是否適合采用平行光反應。
保存原始譜圖(建議用防磁柜存儲)，數據存儲做雙重備份。
結果對比與優化
對比傳統加熱反應和單一光反應的產物分布，分析平行光反應的路徑(如某些中間體僅在特定光波下生成)。
嘗試交叉照射策略(如短波長光引發反應后切換長波長光源)，突破能壘限制。
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